Порошковый питатель 7103 предназначен для обеспечения регулируемой подачи металлических и керамических порошковых материалов в составе комплексов лазерной порошковой наплавки и плазменного напыления.
Главные отличительные особенности
- Вес одного питателя без порошка – не более 4 кг. Малые габариты и вес позволяет размещать до четырёх питателей рядом с рабочим инструментом (плазмотроном, головкой лазера), существенно сокращая путь порошка в технологическом процессе.
- Два основных режима работы – частотный и импульсный. В частотном режиме подача осуществляется непрерывно с установленным расходом порошка в период времени. Расход задаётся при помощи встроенной панели оператора вручную или дистанционно. В импульсном режиме порошок подается отдельными порциями с заданной массой в заданные моменты времени. Импульсный режим предназначен для работы питателей в составе лазерного комплекса. При этом режиме возможна синхронизация подачи микро-порции порошка с непрерывной последовательностью импульсов излучения лазера, первый из которых расплавляет подложку и порошок, а задача последующих – термообработка зоны расплава с целью получения заданных структуры и свойств получаемого материала на каждом шаге наплавки.
- В качестве транспортирующего газа могут быть мспользованы аргон, азот и воздух. При работе в импульсном режиме должны быть обеспечены стабильность подачи, регулировка расхода газа в пределах 0,01...0,25 м3/час. При работе в непрерывном (частотном) режиме подача порошка не зависит от расхода газа. Расход газа при этом режиме определяется только условиями доставки до рабочего инструмента (порошковой насадки лазера, плазмотрона).
- Автоматическая регулировка расхода порошка обеспечивается в пределах 0...3 г/мин на один импульс (прецизионная наплавка в импульсном режиме), либо 0...180 г/мин (на маршевых скоростях непрерывной-частотной наплавки).
- Стабильность подачи порошка – не хуже 5% от заданного значения в пределах всего диапазона регулировки, но не хуже 1 г/мин при непрерывном режиме подачи в рабочем диапазоне расходов.
- В памяти устройства возможно хранение зависимостей производительности питателя для основных стандартных порошков в пределах регулировки по расходу порошка.
- Для работы в составе автоматизированных и роботизированных комплексов, питатель оснащён интерфейсом обмена MODBUS RTU.
Основные технические данные и характеристики
| Число оборотов дозирующего диска, об/мин | 1...40 |
| Диапазон регулирования расхода порошка, г/мин | |
| - прецизионная наплавка в импульсном режиме: | 0...3 |
| - на маршевых скоростях непрерывной наплавки: | 0...100 |
| Транспортирующий газ | аргон, азот, воздух |
| Давление рабочего газа на входе, МПа | 0,03...0,3 |
|
Объём бункера, л Примечание: может быть изменён по желанию заказчика.
|
0,5 |
|
Масса, кг, не более
Примечание: при использовании бункера указанной выше ёмкости и
не включая массу попрошка в бункере. Полная масса зависит от плотности
порошка и ёмкости бункера.
|
4,0 |
| Напряжение питающей сети, В пост. тока | 12...30 |
| Потребляемая мощность, Вт, не более | 30 |
Требования к порошковым материалам
-
Дисперсность порошков должна соответствовать следующим диапазонам просева, мкм:
- 20...63
- 40...80
- 40...100
- сыпучесть порошков должна быть не менее 0,5 см3/с (по корунду);
- температура порошков при подаче должна быть в диапазоне от +10 до +50°С. Различие между температурой газа и температурой окружающей среды - не более ±2°С;
- перед засыпкой в бункер питателя порошки должны быть прокалены при температуре, заданной паспортом порошка.
Варианты комплектации
- Для обеспечения подачи металлических и керамических порошковых материалов в зону наплавки в составе комплекса лазерной порошковой наплавки. Два варианта работы - непрерывный (частотный) и импульсный. Импульсный режим предназначен для порциальной подачи порошка в процессе наплавки. Наплавка при этом осуществляется в режиме модуляции мощности лазера. Импульсный метод наплавки применяется с целью управления структурой и свойствами наплавляемого материала непосредственно в процессе наплавки.
- Для обеспечения непрерывной подачи металлических и керамических порошковых материалов в плазмотрон (горелку) в составе комплекса газотермического порошкового напыления. Для получения композиционных материалов могут вводиться до 4 порошков одновременно. Управление составом композита может осуществляться как от контроллера одного из питателей, включенного в систему, так и от центрального контроллера (компьютера) комплекса плазменного напыления.
Способы управления
- При помощи встроенной панели оператора.
- При помощи аналогового входа управления (напряжение 0...30 В) и цифровых входов (входное напряжение 9...30 В).
- При помощи разъёма USB.
- При помощи разъёма RJ-45 по сети MODBUS RTU.
Документы
 |
Руководство по эксплуатации (HTML, Russian, Version 1) |
 |
Руководство по эксплуатации (PDF, Russian, Version 1) |